| 1. Identificação | ||||
| Tipo de Referência | Artigo em Revista Científica (Journal Article) | |||
| Site | mtc-m21b.sid.inpe.br | |||
| Código do Detentor | isadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S | |||
| Identificador | 8JMKD3MGP3W34P/3NF282S | |||
| Repositório | sid.inpe.br/mtc-m21b/2017/03.03.13.16 (acesso restrito) | |||
| Última Atualização | 2017:03.03.13.16.02 (UTC) administrator | |||
| Repositório de Metadados | sid.inpe.br/mtc-m21b/2017/03.03.13.16.02 | |||
| Última Atualização dos Metadados | 2018:06.04.02.27.20 (UTC) administrator | |||
| DOI | 10.1016/j.surfcoat.2016.08.067 | |||
| ISSN | 0257-8972 | |||
| Chave de Citação | UedaSMMROPR:2017:NePoPl | |||
| Título | New possibilities of plasma immersion ion implantation (PIII) and deposition (PIII&D) in industrial components using metal tube fixtures  | |||
| Ano | 2017 | |||
| Mês | Feb. | |||
| Data de Acesso | 01 maio 2024 | |||
| Tipo de Trabalho | journal article | |||
| Tipo Secundário | PRE PI | |||
| Número de Arquivos | 1 | |||
| Tamanho | 3306 KiB | |||
| 2. Contextualização | ||||
| Autor | 1 Ueda, Mário 2 Silva Junior, Ataide Ribeiro da 3 Mitma Pillaca, Elver Juan de Dios 4 Mariano, Samantha de Fátima Magalhães 5 Rossi, José Osvaldo 6 Oliveira, Rogério de Moraes 7 Pichon, L. 8 Reuther, H. | |||
| Identificador de Curriculo | 1 8JMKD3MGP5W/3C9JHSB 2 3 4 5 8JMKD3MGP5W/3C9JHJ5 6 8JMKD3MGP5W/3C9JJ6L | |||
| Grupo | 1 LABAP-COCTE-INPE-MCTIC-GOV-BR 2 LABAP-COCTE-INPE-MCTIC-GOV-BR 3 LABAP-COCTE-INPE-MCTIC-GOV-BR 4 CMS-ETES-SESPG-INPE-MCTIC-GOV-BR 5 LABAP-COCTE-INPE-MCTIC-GOV-BR 6 LABAP-COCTE-INPE-MCTIC-GOV-BR | |||
| Afiliação | 1 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) 2 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) 3 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) 4 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) 5 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) 6 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) 7 CNRS-Université de Poitiers-ENSMA 8 Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf | |||
| Endereço de e-Mail do Autor | 1 mario.ueda@inpe.br 2 ataide@plasma.inpe.br 3 elver.mitma@inpe.br 4 samanthafmm@outlook.com 5 jose.rossi@inpe.br 6 rogerio.oliveira@inpe.br | |||
| Revista | Surface and Coatings Technology | |||
| Volume | 312 | |||
| Páginas | 37-46 | |||
| Nota Secundária | A1_MATERIAIS A1_ENGENHARIAS_II A2_SAÚDE_COLETIVA A2_INTERDISCIPLINAR A2_GEOCIÊNCIAS A2_ENGENHARIAS_III B1_ODONTOLOGIA B1_MEDICINA_II B1_ENGENHARIAS_IV B1_ASTRONOMIA_/_FÍSICA B2_QUÍMICA B2_CIÊNCIAS_BIOLÓGICAS_I | |||
| Histórico (UTC) | 2017-03-03 13:16:02 :: simone -> administrator :: 2017-03-03 13:16:02 :: administrator -> simone :: 2016 2017-03-03 13:17:08 :: simone -> administrator :: 2016 -> 2017 2017-07-03 13:04:00 :: administrator -> simone :: 2017 2017-12-15 14:22:58 :: simone -> administrator :: 2017 2018-06-04 02:27:20 :: administrator -> simone :: 2017 | |||
| 3. Conteúdo e estrutura | ||||
| É a matriz ou uma cópia? | é a matriz | |||
| Estágio do Conteúdo | concluido | |||
| Transferível | 1 | |||
| Tipo do Conteúdo | External Contribution | |||
| Tipo de Versão | publisher | |||
| Palavras-Chave | Batch processing Hollow cathode plasma Industrial components Metal tube fixture Plasma immersion ion implantation Plasma immersion ion implantation and deposition | |||
| Resumo | New possibilities of Plasma Immersion Ion Implantation (PIII) and deposition (PIII&D) for treating industrial components in the batch mode have been explored. A metal tubular fixture is used to allocate the components inside around and along the tube, exposing to the plasma only the parts of each component that will be implanted. Hollow cathode- like plasma is generated only inside the tube filled with the desired gas, by applying high negative voltage pulses to the hollow cylindrical metal fixture which is insulated from the vacuum chamber walls. The metal tube (Me-tube) loaded with workpieces can be set-up inside the vacuum chamber in the standing-up, upside down or lying down arrangements. PIII tests were also run with and without metal sheet lids on the tube as well as with and without the components. Sputtering deposition and carbonitriding are also possible in this scheme by placing carbon tapes inside the tube and running the process with nitrogen PIII. Relatively clean DLC (Diamond Like Carbon) PIII&D deposition is possible by this method also since the plasma occupies mainly the Me-tube interior and not the whole chamber. Furthermore, operating high density PIII and PIII&D systems without additional plasma source, using only the high voltage pulser, is now possible to treat three dimensional parts. These methods are very convenient for batch processing of industrial parts by ion implantation and by ion implantation and deposition, in which a large number of small to medium size components can be treated by PIII and PIII&D, very quickly, efficiently and also at low cost. | |||
| Área | FISPLASMA | |||
| Arranjo 1 | urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAP > New possibilities of... | |||
| Arranjo 2 | urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção pgr ATUAIS > CMS > New possibilities of... | |||
| Conteúdo da Pasta doc | acessar | |||
| Conteúdo da Pasta source | não têm arquivos | |||
| Conteúdo da Pasta agreement |
| |||
| 4. Condições de acesso e uso | ||||
| Idioma | en | |||
| Arquivo Alvo | ueda_new.pdf | |||
| Grupo de Usuários | simone | |||
| Grupo de Leitores | administrator simone | |||
| Visibilidade | shown | |||
| Política de Arquivamento | denypublisher denyfinaldraft24 | |||
| Permissão de Leitura | deny from all and allow from 150.163 | |||
| Permissão de Atualização | não transferida | |||
| 5. Fontes relacionadas | ||||
| Vinculação | 8JMKD3MGP3W34P/3PE5922 | |||
| Repositório Espelho | sid.inpe.br/mtc-m21b/2013/09.26.14.25.22 | |||
| Unidades Imediatamente Superiores | 8JMKD3MGPCW/3ET2RFS 8JMKD3MGPCW/3F358GL | |||
| Lista de Itens Citando | sid.inpe.br/bibdigital/2013/09.25.21.49 2 sid.inpe.br/mtc-m21/2012/07.13.14.59.24 2 sid.inpe.br/mtc-m21/2012/07.13.14.52.24 1 | |||
| Divulgação | WEBSCI; PORTALCAPES; COMPENDEX. | |||
| Acervo Hospedeiro | sid.inpe.br/mtc-m21b/2013/09.26.14.25.20 | |||
| 6. Notas | ||||
| Campos Vazios | alternatejournal archivist callnumber copyholder copyright creatorhistory descriptionlevel e-mailaddress format isbn label lineage mark nextedition notes number orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarykey session shorttitle sponsor subject tertiarytype url | |||
| 7. Controle da descrição | ||||
| e-Mail (login) | simone | |||
| atualizar | ||||